Pat
J-GLOBAL ID：201203091088087816
SlipChip装置および方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012502163
Publication number (International publication number)：2012521219
Application date： Mar. 23, 2010
Publication date： Sep. 13, 2012
Summary：
複数の第一の領域を有する第一の表面および複数の第二の領域を有する第二の表面を有する装置が記述される。第一の表面および第二の表面は、互いに対向しており、第一の物質を有する複数の第一の領域のいずれもが第二の物質を有する複数の第二の領域に曝露されない少なくとも第一の位置から第二の位置へ互いに対して相対的に移動することができる。第二の位置においてあるときに、複数の第一および第二の領域、およびしたがって、第一および第二の物質は互いに曝露される。本装置は、第一の位置にあるときに、複数の第二の領域において、またはこれにより、物質を処分することができるように、複数の第一の第二の領域と連絡した一連のダクトをさらに含んでいてもよい。
Claim (excerpt)：
反応を行うための装置であって、
第一の表面を有する第一の部品;
前記第一の表面の一部に沿って位置され、少なくとも1つの第一の物質を維持するように構成されている、少なくとも1つの第一の領域;
前記第一の表面に対向する第二の表面を有する第二の部品;および
前記第二の表面の一部に沿って位置され、少なくとも1つの第二の物質を維持するように構成されている、少なくとも1つの第二の領域;
を備え、前記第一の部品における前記第一の表面および前記第二の部品における前記第二の表面の少なくとも1つは、前記少なくとも1つの第一の領域が前記少なくとも1つの第二の領域に曝露されない第一の位置と、前記少なくとも1つの第一の領域の1つが前記少なくとも1つの第二の領域の1つにのみ曝露され、かつ閉鎖系を形成する第二の位置との間で、もう一方と相対的に移動するように構成されている、装置。
IPC (4)：
C12M 1/00
, C12M 1/34
, G01N 37/00
, G01N 33/543
C12M1/00 A
, C12M1/34 A
, G01N37/00 101
, G01N33/543 521
4B029AA07
, 4B029AA08
, 4B029BB01
, 4B029BB20
, 4B029GA03
, 4B029GB02
Cited by applicant (2)
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多ウェル装置
Gazette classification：公表公報
Application number：特願2002-571221
Applicant：エクセリクシス・インコーポレイテッド
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処理実行に使用する機器および容器
Gazette classification：公表公報
Application number：特願2010-513253
Applicant：ジェン-プロウブインコーポレイテッド, クアリジェン,インコーポレイテッド
Cited by examiner (2)
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多ウェル装置
Gazette classification：公表公報
Application number：特願2002-571221
Applicant：エクセリクシス・インコーポレイテッド
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処理実行に使用する機器および容器
Gazette classification：公表公報
Application number：特願2010-513253
Applicant：ジェン-プロウブインコーポレイテッド, クアリジェン,インコーポレイテッド
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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