多ウェル装置

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：園田吉隆 , 小林義教
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002571221
Publication number (International publication number)：2004532099
Application date： Mar. 08, 2002
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：

多ウェルブロック(12)およびガイドプレート(14)を備える多ウェルアセンブリ(10)を開示する。多ウェルブロック(12)は複数のウェル(18)を有し、各ウェルは液体を通さない底面(22)を有する。ガイドプレート(14)には多ウェルブロック(12)のウェル(18)に対応する複数の液体通路(34)が設けられる。ガイドプレート(14)は、ガイドプレート(14)と多ウェルブロック(12)とを整列させたとき、各ウェル(18)と対応する液体通路(34)の間に液体が連通するように構成されている。

Claim (excerpt)：

各々が液体を通さない底面を持つ複数のウェルを有する多ウェルブロックと、各々が多ウェルブロックの各ウェルに対応している複数の液体通路を画定し、ガイドプレートに多ウェルブロックを嵌め合わせたとき、各ウェルと対応する液体通路の間に液体が連通するように構成されたガイドプレートとを備える多ウェルアセンブリ。

IPC (2)：

B01J19/00 , G01N35/02

FI (2)：

B01J19/00 321 , G01N35/02 A

F-Term (17)：

2G058CC02 , 2G058CC05 , 2G058CC17 , 2G058CC18 , 4G075AA13 , 4G075AA39 , 4G075DA02 , 4G075EA01 , 4G075EB01 , 4G075EC09 , 4G075EC30 , 4G075EE01 , 4G075EE02 , 4G075EE12 , 4G075EE31 , 4G075FA08 , 4G075FA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

多重同時合成のための装置および方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-510171 Applicant：ワーナー-ランバート・コンパニー
特表平3-500003
特表昭63-500330

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