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J-GLOBAL ID：201203092676904193

光干渉断層撮影装置、画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム

Inventor：
内田 弘樹

About 内田 弘樹


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011079367
Publication number (International publication number)：2012213452
Application date： Mar. 31, 2011
Publication date： Nov. 08, 2012
Summary：
【課題】撮影後に撮影の成否確認が行えるようにする。【解決手段】走査光学系を介して被測定物体に照射された光の戻り光と参照光とを干渉させた干渉光に基づいて被測定物体の複数の断層画像を生成する生成部301と、複数の断層画像の少なくともいずれかに対して画質を向上させる画像処理をする画像処理部304と、生成部301で生成した断層画像のいずれかを表示した後に画像処理部304で画像処理した画像をモニタ320に表示する表示制御部310と、を備える。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
被測定物体に照射された光の戻り光と参照光とを干渉させた干渉光に基づいて前記被測定物体の断層画像を生成する生成手段と、 前記生成手段で生成された断層画像の少なくともいずれかに対して画質を向上させる画像処理をする画像処理手段と、 前記生成手段で生成した断層画像のいずれかを表示した後に前記画像処理手段で画像処理した画像を前記表示手段に表示する表示制御手段と、 を備えることを特徴とする光干渉断層撮影装置。
IPC (3)：
A61B 3/12 ,  A61B 3/10 ,  G01N 21/17
FI (3)：
A61B3/12 E ,  A61B3/10 R ,  G01N21/17 625
F-Term (20)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059FF09 ,  2G059GG02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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