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J-GLOBAL ID：201302213490947610   Reference number：13A0241648

低速の陽電子を大気中で利用する技術 機能性薄膜の分子間空隙を“その場”評価

Author (12)： OSHIMA NAGAYASU (産業技術総合研) ,  ITO KENJI (産業技術総合研) ,  ZHOU Wei (産業技術総合研) ,  O'ROURKE Brian (産業技術総合研) ,  KINOMURA ATSUSHI (産業技術総合研) ,  ODAIRA TOSHIYUKI (産業技術総合研) ,  SUZUKI RYOICHI (産業技術総合研) ,  KURODA RYUNOSUKE (産業技術総合研) ,  YANAGISHITA HIROSHI (産業技術総合研) ,  TSUTSUI TAKURO (筑波大) ,  UEDONO AKIRA (筑波大) ,  HAYASHIZAKI NORIYOSU (東京工大)
Material： 産総研TODAY(Web)
Volume： 12  Issue： 12  Page： 15 (WEB ONLY)  Publication year： Dec. 2012 
JST Material Number： U0301A  Document type： Article
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (6)： 低速 ,  陽電子 ,  大気中 ,  機能性薄膜 ,  空隙 ,  評価