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J-GLOBAL ID：201302214184902510   Reference number：13A0399988

酸化グラフェンの還元におけるヒドラジン処理効果

Author (13)： WATANABE DAIKI (東北大) ,  OGAWA SHUICHI (東北大) ,  YAMAGUCHI NAOTO (Rutgers Univ.) ,  HOZUMI HIDEAKI (東北大) ,  EDA KOKI (Rutgers Univ.) ,  MATTEVI C. (Rutgers Univ.) ,  YOSHIGOE AKITAKA (原研) ,  ISHIZUKA SHINJI (秋田工高専) ,  TERAOKA YUDEN (原研) ,  YAMADA TAKATOSHI (産業技術総合研) ,  CHHOWALLA M. (Rutgers Univ.) ,  CHHOWALLA M. (Imperial Coll. London) ,  TAKAKUWA YUJI (東北大)
Material： 表面科学学術講演会講演要旨集  (表面科学学術講演会要旨集)
Volume： 32nd  Page： 156  Publication year： Nov. 20, 2012 
JST Material Number： L1366A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *oxide ,  carbon material ,  *reduction (reaction) ,  *hydrazine ,  *photoelectron spectrum ,  substrate (plate) ,  silicon ,  silicon oxide ,  spin coating ,  *surface treatment ,  *graphene oxide

JST classification (1)： Electron spectroscopy  (BM09060K)

Terms in the title (3)： 酸化グラフェン ,  還元 ,  ヒドラジン