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J-GLOBAL ID：201302257829688676   Reference number：13A1638674

Industrial Application of Ultrashort Laser Processing

フォトニクス産業応用に向けた超短パルスレーザーマイクロプロセッシング

Author (3)： WATANABE WATARU (立命館大 理工) ,  OTA MICHIHARU (アイシン精機) ,  ITO KAZUYOSHI (大阪大)
Material： レーザー研究  (レーザー学会誌)
Volume： 41  Issue： 10  Page： 780-784  Publication year： Oct. 15, 2013 
JST Material Number： X0335A  ISSN： 0387-0200  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *pulsed laser ,  semiconductor device ,  *micromachining ,  high temperature ,  *laser beam machining ,  solar cell ,  hermetic seal ,  laser pulse ,  *optoelectronics ,  practical application ,  ultrashort pulse laser ,  photonics ,  high temperatures and high humidity test
Semi thesaurus term： micromachining ,  hermetic seal ,  industrial application ,  semiconductor element

JST classification (1)： Applications of lasers  (BD04100V)

Reference (32)：

• 1) 伊東 一良:第79回レーザ加工学会論文集( 2013) 143.
• 2) K. Itoh, W. Watanabe, S. Nolte, and C. B. Schaffer: MRS Bulletin\n31 (2006) 620.
• 3) R. R. Gattass and E. Mazur: Nature Photon. 2 (2008) 219.
• 4) K. Itoh, W. Watanabe, and Y. Ozeki: Proc. IEEE 97 (2009) 1011.
• 5) T. Tamaki, W. Watanabe, J. Nishii, and K. Itoh: Jpn. J. Appl.\nPhys. 44 (2005) L687.

Terms in the title (5)： フォトニクス ,  産業応用 ,  短パルスレーザー ,  マイクロ ,  プロセッシング