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J-GLOBAL ID：201302267058038718   Reference number：13A1073422

Facile One-step Photopatterning of Polystyrene Films

ポリスチレン薄膜の簡易ワンステップ光パターニング

Author (1)： UBUKATA TAKASHI (横浜国大 大学院)
Material： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
Volume： 62  Issue： 1  Page： ROMBUNNO.2M16IL  Publication year： May. 14, 2013 
JST Material Number： Z0703C  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *polystyrene ,  *polymer thin film ,  *pattern formation ,  *surface structure ,  surface quality ,  *photomask ,  atomic force microscope ,  *ultraviolet irradiation ,  exposure (photography) ,  fine patterning ,  surface analysis ,  film thickness ,  *surface relief ,  *structure ,  *mask
Semi thesaurus term： AFM (microscope) ,  UV irradiation

JST classification (2)： Physical properties of polymer solids  (CG02024U) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： ポリスチレン ,  薄膜 ,  簡易 ,  パターニング