Art

J-GLOBAL ID：201302281532336078   Reference number：13A1756547

Removal of the Particles on a Silicon Surface using Electrostatic Force

静電吸着によるシリコン表面上の微粒子除去

Author (1)： TAKAHASHI KAZUE (大島商船高等専門学校電子機械工学科)
Material： Journal of the Vacuum Society of Japan  (真空)
Volume： 56  Issue： 7  Page： 273-276 (J-STAGE)  Publication year： 2013 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 1882-2398  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Adsorption ,  semiconductor ,  *silicon ,  *fine particle ,  *removal ,  Glass ,  sphere ,  polymer membrane ,  low density polyethylene ,  polyvinyl chloride ,  *electrostatic adsorption
Semi thesaurus term： polymeric film

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (12)：

• 1) ITRS 2012 Edition, Table FEP10.
• 2) W. F. D. Geest: US Patent, 3,536,528 (1970).
• 3) D. W. Cooper, H. L. Wolfe, J. T. C. Yeh and R. J. Miller: Aerosol Sci. Technol., 13 (1990) 116.
• 4) D. W. Cooper, H. L. Wolfe and J. T. C. Yeh: US Patent, 4,744,833 (1988).
• 5) T. Oguchi: Toraiborojisuto, 43 (1998) 271.

Terms in the title (3)： 静電吸着 ,  シリコン ,  微粒子除去