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J-GLOBAL ID：201302290630809498   Reference number：13A0990252

Nitrogen doped TiO₂ film deposition by atmospheric thermal plasma CVD

大気熱プラズマCVDによる窒素ドーピングTiO₂皮膜の形成

Author (3)： ANDO YASUTAKA (足利工大) ,  CHEN Shengyuan (足利工大) ,  NODA YOSHIMASA (足利工大)
Material： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： PST-13  Issue： 58-61.63-73  Page： 41-42  Publication year： May. 16, 2013 
JST Material Number： Z0951A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma CVD ,  *thin film growth ,  plasma jet ,  titanium oxide ,  mixed gas ,  argon ,  nitrogen ,  additive effect ,  photocatalyst ,  catalytic activity ,  transition metal catalyst ,  anatase-type crystal ,  *thermal chemical vapor deposition
Semi thesaurus term： *大気圧熱プラズマCVD ,  *titanium dioxide ,  熱プラズマCVD

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (5)： 大気 ,  プラズマCVD ,  窒素ドーピング ,  TiO2 ,  皮膜