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J-GLOBAL ID:201303005354863219

紫外線吸収性を有する高分子微粒子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012069035
Publication number (International publication number):2013199596
Application date: Mar. 26, 2012
Publication date: Oct. 03, 2013
Summary:
【課題】本発明は、ヒドロキシ桂皮酸由来の紫外線吸収能を有する部位を含む新規な紫外線吸収性微粒子とその簡便な製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、少なくとも1つの重合性官能基を有するヒドロキシ桂皮酸誘導体と、これとは別の少なくとも2つの重合性官能基を有する架橋性モノマーとの共重合体からなる、紫外線吸収性を有する高分子微粒子である。【選択図】図6
Claim (excerpt):
少なくとも1つの重合性官能基を有するヒドロキシ桂皮酸誘導体と、これとは別の少なくとも2つの重合性官能基を有する架橋性モノマーとの共重合体からなる、紫外線吸収性を有する高分子微粒子。
IPC (3):
C08F 220/20 ,  C08F 220/12 ,  C08F 220/68
FI (3):
C08F220/20 ,  C08F220/12 ,  C08F220/68
F-Term (21):
4J100AL21Q ,  4J100AL59P ,  4J100AL62P ,  4J100AL71Q ,  4J100AL75Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA65 ,  4J100EA05 ,  4J100FA19 ,  4J100FA27 ,  4J100JA07 ,  4J100JA09 ,  4J100JA15 ,  4J100JA43 ,  4J100JA61
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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