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J-GLOBAL ID：201303007546600230

シリコン又はシリコン系材料からなる構造化粒子の製造方法及びそのリチウム二次電池での使用

Inventor： グリーン,ミノ ,  リウ,フェン-ミン ,  ジァン,ユィション ,  スティーブンス バレリー エリザベス ダウン ,  ミルス-ランプティ,ベンジャミン オーダークウェイ
Applicant, Patent owner： ネグゼオン・リミテッド
Agent (3)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦 ,  大貫 進介
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013503170
Publication number (International publication number)：2013523588
Application date： Apr. 08, 2011
Publication date： Jun. 17, 2013
Summary：

本発明は、シリコンを処理してピラー、具体的にはLiイオン電池で活性アノード材料として使用するためのピラー(図2)を形成するための方法に関する。前記プロセス(方法)は簡単である商業化スケールで実施可能である。というのは、濃度が制御される少数の成分のみを含む溶液を使用するものであり、従来の方法に比較してより安価な方法であるからである。エッチング溶液は:0.01から5MのHF、0.002から0.2Mの、前記シリコン表面に核化が可能であり、かつ原子状金属の多孔性層を形成することが可能な金属イオン;0.001から0.7Mの、O2、O3、H2O2、NO3-、S2O82-、NO2-、B4O72-及びClO4-の酸、アンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群から選択される化剤を含む。処理されたシリコンが適切に溶液から取り出される。本方法で製造されたエッチングされた粒子又はファイバは、活性電極材料中に複合化材料の形で使用され得る。

Claim (excerpt)：

シリコンを処理するためのプロセスであり、前記プロセスはシリコン含有材料を: 0.01から5MのHF、 0.002から0.2Mの、前記シリコン表面上に核化し、及び原子状金属の領域を含む多孔性層を形成することができる金属イオン; 0.001から0.7Mの、O2、O3、H2O2、NO3-、S2O82-、NO2-、B4O72-及びClO4-の酸、アンモニウム塩又はアルカリ金属塩又はこれらの混合物からなる群から選択される酸化剤、を含む溶液に暴露するステップを含む、プロセス。

IPC (2)：

C01B 33/02 ,  H01M 4/38

FI (2)：

C01B33/02 Z ,  H01M4/38 Z

F-Term (33)：

4G072AA01 ,  4G072BB05 ,  4G072DD01 ,  4G072DD02 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072JJ03 ,  4G072JJ09 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ18 ,  4G072JJ33 ,  4G072NN27 ,  4G072TT01 ,  4G072UU02 ,  4G072UU30 ,  5H050AA19 ,  5H050BA15 ,  5H050CA01 ,  5H050CA07 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CB11 ,  5H050FA17 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050GA14 ,  5H050GA15 ,  5H050HA01 ,  5H050HA05 ,  5H050HA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• シリコン系材料のエッチング方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2008-551860   Applicant：ネクソン・リミテッド
• 構造化シリコンアノード
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-549349   Applicant：インペリアル・カレッジ・イノベーションズ・リミテッド