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J-GLOBAL ID：201303013259983102

電子顕微鏡とその対物レンズ系収差特性の計測方法

Inventor： 木本 浩司 ,  石塚 和夫 ,  松井 良夫
Applicant, Patent owner： 独立行政法人物質・材料研究機構
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008513085
Patent number：4942000
Application date： Apr. 25, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】試料の近傍に電子を収束する対物レンズ系を有し、前記電子を前記試料に透過させてロンチグラムを得、前記ロンチグラムの少なくとも一部のフーリエ変換図形の、構成要素の相対距離又は/及び形状が、前記対物レンズ系収差特性により変化することを用いる電子顕微鏡の対物レンズ系収差特性の計測方法であって、フーリエ変換するのは、前記ロンチグラムの異なる複数部分であり、得られた複数の前記フーリエ変換図形の、構成要素の相対距離又は/及び形状における相対差により、前記対物レンズ系収差特性を計測することを特徴とする、電子顕微鏡の対物レンズ系収差特性の計測方法。

IPC (2)：

H01J 37/153 ( 200 6.01) ,  H01J 37/28 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01J 37/153 A ,  H01J 37/28 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 幾何光学収差を決定する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-555115   Applicant：ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハー, 日本電子株式会社
• 電子顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-137720   Applicant：日本電子株式会社
• 特開昭63-043251
  

Cited by examiner (3)

• 幾何光学収差を決定する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-555115   Applicant：ツェーエーオーエスコレクテッドエレクトロンオプチカルシステムズゲーエムベーハー, 日本電子株式会社
• 電子顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-137720   Applicant：日本電子株式会社
• 特開昭63-043251