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J-GLOBAL ID:201303016433748508

ピュアシリカゼオライトの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩谷 龍
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007286783
Publication number (International publication number):2009114007
Patent number:5244367
Application date: Nov. 02, 2007
Publication date: May. 28, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】CHA型ピュアシリカゼオライトの製造方法であって、(1)シリカと水とフッ化水素酸と、粉末の状態で混合された水酸化N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアミンと が含有された、下記組成Aを有する湿潤もしくは懸濁原料組成物を調製する工程、及び(2)前記(1)の工程により得られた湿潤もしくは懸濁原料組成物を加圧下に130〜200°Cの温度で12〜30時間加熱処理する工程、を含むことを特徴とするCHA型ピュアシリカゼオライトの製造方法。 組成A(モル比):水/シリカ(SiO2)成分=3.2〜20
IPC (2):
C01B 39/46 ( 200 6.01) ,  C01B 37/02 ( 200 6.01)
FI (2):
C01B 39/46 ,  C01B 37/02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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