ピュアシリカゼオライトの製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩谷龍
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2007286783
Publication number (International publication number)：2009114007
Patent number：5244367
Application date： Nov. 02, 2007
Publication date： May. 28, 2009
Claim (excerpt)：

【請求項1】CHA型ピュアシリカゼオライトの製造方法であって、(1)シリカと水とフッ化水素酸と、粉末の状態で混合された水酸化N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアミンとが含有された、下記組成Aを有する湿潤もしくは懸濁原料組成物を調製する工程、及び(2)前記(1)の工程により得られた湿潤もしくは懸濁原料組成物を加圧下に130〜200°Cの温度で12〜30時間加熱処理する工程、を含むことを特徴とするCHA型ピュアシリカゼオライトの製造方法。組成A(モル比):水/シリカ(SiO2)成分=3.2〜20

IPC (2)：

C01B 39/46 ( 200 6.01) , C01B 37/02 ( 200 6.01)

FI (2)：

C01B 39/46 , C01B 37/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

カバサイト含有モレキュラーシーブ、その合成及びオイシジェネートからオレフィンへの変換におけるその使用
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-547213 Applicant：エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク
特開昭62-191418
合成多孔質結晶性物質ITQ-13、その合成および用途
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