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J-GLOBAL ID:201303018934922853

アセタール化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森田 順之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011251932
Publication number (International publication number):2013107831
Application date: Nov. 17, 2011
Publication date: Jun. 06, 2013
Summary:
【課題】触媒添加、触媒除去、触媒製造を必要とせず、かつ高選択性、高収率でアセタール化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】カルボニル基を有する有機化合物(以下、「カルボニル化合物」という。)とヒドロキシ基を含む有機化合物(以下、「ヒドロキシ化合物」という。)とを含む混合液(以下、「混合液」という。)からアセタール化合物を製造する方法において、「混合液」を、「ヒドロキシ化合物」の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
カルボニル基を有する有機化合物(以下、「カルボニル化合物」という。)とヒドロキシ基を含む有機化合物(以下、「ヒドロキシ化合物」という。)とを含む混合液(以下、「混合液」という。)からアセタール化合物を製造する方法において、「混合液」を、「ヒドロキシ化合物」の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。
IPC (4):
C07C 41/56 ,  C07C 43/307 ,  C07C 43/303 ,  C07D 317/12
FI (4):
C07C41/56 ,  C07C43/307 ,  C07C43/303 ,  C07D317/12
F-Term (5):
4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006BB30 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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