シミュレーション装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：大菅義之 , 久木元彰
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2001226950
Publication number (International publication number)：2003044524
Patent number：4733307
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： Feb. 14, 2003
Claim (excerpt)：

【請求項1】コンピュータに、入力部より、ユーザから物理系あるいは化学系の熱力学量を算出するためのシミュレーションに必要なパラメータ、及び、少なくともポテンシャル関数を含む微分方程式を設定するためのデータの入力を受け付け、入力された微分方程式を設定するためのデータに基づき、統計力学によって定義される統計分布をエネルギーの関数としてみたとき、エネルギーが大きくなるにつれての分布の変化が、指数関数より遅く0に漸近する一般化分布を再現する微分方程式を設定する処理と、入力されたパラメータに基づいて、設定された微分方程式を積分し、得られた軌道に沿って、サンプリングを行い、該サンプリングに基づいて物理量の長時間平均を算出する処理と、を実行させることを特徴とするシミュレーションプログラム。

IPC (4)：

G06F 17/50 ( 200 6.01) , C07B 61/00 ( 200 6.01) , G06F 17/13 ( 200 6.01) , G06F 19/00 ( 201 1.01)

FI (4)：

G06F 17/50 612 A , C07B 61/00 Z , G06F 17/13 , G06F 19/00 110

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

分子シミュレ-ション法と均質化法の結合解析による材料及び構造物の設計手法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-207596 Applicant：株式会社・イー・アール・シー・

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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