ゴルフボール表面の凹凸パターン設計方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：岡憲吾 , 住友教郎 , 室橋克義
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008146056
Publication number (International publication number)：2009291315
Patent number：4921419
Application date： Jun. 03, 2008
Publication date： Dec. 17, 2009
Claim (excerpt)：

【請求項1】複数の状態が想定されるステップ、球面上に多数のセルが想定されるステップ、それぞれのセルの初期の状態が決定されるステップ、このセルの状態の変更の要否が、このセルの近傍に位置する複数のセルの状態に基づいて判定されるステップ、上記判定に基づき、このセルの状態の更新がなされるステップ及びこのセルに、その状態に応じてランド又はリセスが割り当てられるステップを含む、ゴルフボール表面の凹凸パターン設計方法であって、上記判定及び更新が、セル・オートマトン法の反応・拡散モデルによってなされるものであり、上記セルの数が5000個以上100000個以下であり、上記状態の変更の要否が判定されるステップが、下記数式(1)で算出される値Eに基づいてなされるものであり、それぞれのセルの初期の状態が分化又は未分化であり、下記数式(1)で算出される値Eが正であるとき、セルの状態が分化であればこの状態が維持され、セルの状態が未分化であればこの状態が分化に変更され、この値Eがゼロであるとき、セルの状態が維持され、この値Eが負であるとき、セルの状態が分化であればこの状態が未分化に変更され、セルの状態が未分化であればこの状態が維持される設計方法。 E = W1 * NR1 + W2 * NR1-R2 (1) (この数式(1)において、W1は第一濃度であり、NR1は第一円に含まれこの第一円の中心に位置しない特定の状態にあるセルの数であり、W2は第二濃度であり、NR1-R2は第二円に含まれ第一円に含まれない特定の状態にあるセルの数である。第一濃度は正であり、第二濃度は負である。第一円は、当該セルを中心とする、指数半径がR1である円である。第二円は、当該セルを中心とする、指数半径がR2である円である。半径R2は、半径R1よりも大きい。第一濃度W1は0.80以上1.20以下であり、第二濃度W2は-0.70以上-0.50以下であり、指数半径R1は2.20以上2.60以下であり、指数半径R2は3.0以上5.0以下である。)

IPC (2)：

A63B 45/00 ( 200 6.01) , A63B 37/00 ( 200 6.01)

FI (2)：

A63B 45/00 Z , A63B 37/00 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

ゴルフボール表面の凹凸パターン設計方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-118410 Applicant：SRIスポーツ株式会社, 国立大学法人豊橋技術科学大学
特開平4-347177
特開昭50-008630

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