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J-GLOBAL ID:201303035770403878

塩化揮発法によるレアメタルの分離精製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 熊谷 繁
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007063963
Publication number (International publication number):2008222499
Patent number:5223085
Application date: Mar. 13, 2007
Publication date: Sep. 25, 2008
Claim (excerpt):
【請求項1】 複数のレアメタル化合物を含む原料へ、カルシウム化合物を添加した後、不活性雰囲気下で加熱処理する、熱処理工程と、 前記熱処理工程を経て得られる原料粉末を塩素気流中で加熱し、該原料粉末からタングステン、ニオブ、ニッケル及び/又はコバルトを金属塩化物として揮発分離するとともに、タンタル、クロム及び/又はチタンの高濃度固体化合物を作製する第1の塩化揮発処理工程と、 前記高濃度固体化合物に対して固体炭素を混合した後に、塩素雰囲気下で加熱して前記タンタル、クロム及び/又はチタンを金属塩化物として揮発分離する第2の塩化揮発処理工程と、 前記第1の塩化揮発処理工程もしくは前記第2の塩化揮発処理工程において揮発分離した金属塩化物を冷却区間の温度調整により沈積させ、各元素の単体分離を行う分離濃縮工程と、 を組み合わせてなることを特徴とする塩化揮発法によるレアメタルの分離精製方法。
IPC (7):
C22B 5/16 ( 200 6.01) ,  C22B 7/00 ( 200 6.01) ,  C22B 59/00 ( 200 6.01) ,  C01G 1/06 ( 200 6.01) ,  C01G 37/04 ( 200 6.01) ,  C01G 35/02 ( 200 6.01) ,  C01G 23/02 ( 200 6.01)
FI (7):
C22B 5/16 ,  C22B 7/00 D ,  C22B 59/00 ,  C01G 1/06 ,  C01G 37/04 ,  C01G 35/02 ,  C01G 23/02 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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