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J-GLOBAL ID：201303036062628963

重合性LC材料および負の光学的分散を有するポリマーフィルム

Inventor： アドレム、 ケビン ,  パーリ、 オーウェン リル ,  ウィルクス、 デイヴィッド ,  サックストン、 パトリシア エイリーン
Applicant, Patent owner： メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (2)： 伊藤 克博 ,  小野 暁子
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012535650
Publication number (International publication number)：2013509458
Application date： Oct. 06, 2010
Publication date： Mar. 14, 2013
Summary：

【課題】重合性LC材料および負の光学的分散を有するポリマーフィルムを提供する。【解決手段】本発明は、負の光学的分散を有する重合性LC材料と、その様な材料より得ることができる負の光学的分散を有するポリマーフィルムと、光学的、電気光学的、電子的、半導体または発光部品または装置における該重合性LC材料およびポリマーフィルムの使用とに関する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式Iの1種類以上の化合物を1〜45%含み、更に、式Iと異なる重合性メソゲンまたは液晶化合物を50%〜99%含む重合性LC材料。

IPC (5)：

C08F 20/10 ,  C09K 19/18 ,  C09K 19/38 ,  C09K 19/54 ,  C08J 5/18

FI (5)：

C08F20/10 ,  C09K19/18 ,  C09K19/38 ,  C09K19/54 Z ,  C08J5/18

F-Term (27)：

4F071AA32 ,  4F071AF12 ,  4F071AF35Y ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4H027BD01 ,  4H027BD07 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL66P ,  4J100AL66Q ,  4J100AT20Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BB07P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA66 ,  4J100JA01 ,  4J100JA03 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 反応性チエノチオフェン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-200358   Applicant：メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
• フェニルアセチレン構造及び重合性基を有する化合物、液晶性組成物、重合物、光学異方体及び光学又は液晶素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-024425   Applicant：住友化学工業株式会社