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J-GLOBAL ID：201303051882159290

マイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法

Inventor： 内田 博 ,  冨田 浩幸 ,  篠崎 研二 ,  竹内 和彦 ,  長畑 律子 ,  原中 正行 ,  和田 雄二 ,  望月 大
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (3)： 在原 元司 ,  清水 昇 ,  竹居 信利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011244284
Publication number (International publication number)：2013101808
Application date： Nov. 08, 2011
Publication date： May. 23, 2013
Summary：

【課題】導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を適切に加熱することができるマイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法を提供する。【解決手段】導波管16aに波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を供給しつつ、この導波管16aの中において、導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を形成した基板24を、上記膜の形成面が前記マイクロ波の磁力線方向と略平行になり、かつ上記マイクロ波の磁界の最大点を含んだ位置に配置し、またはその位置を移動させる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

導波管と、 前記導波管に波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、 前記導波管内において、導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を形成した基板を、前記膜の形成面が前記マイクロ波の磁力線方向と略平行になり、かつ前記マイクロ波の磁界の最大点を含んだ位置に配置し、またはその位置を移動させる基板供給手段と、 を備えることを特徴とするマイクロ波加熱装置。

IPC (1)：

H05B 6/70

FI (1)：

H05B6/70 E

F-Term (5)：

3K090AA13 ,  3K090AB20 ,  3K090BB18 ,  3K090CA01 ,  3K090PA07