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J-GLOBAL ID：201303054861778160
スピン偏極イオンビーム発生装置及びそのスピン偏極イオンビームを用いた散乱分光装置及び方法並びに試料加工装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
平山 一幸
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008548251
Patent number：5322157
Application date： Nov. 29, 2007
Claim (excerpt)：
【請求項1】 スピン偏極イオンビーム発生装置であって、
イオン発生用の高周波放電管と、レーザー発振器と、当該レーザー発振器からのレーザーを二つに分岐し、一方を円偏光の第1のポンピング光とし、他方を直線偏光の第2のポンピング光として、相互に90°の照射角度差をもって上記高周波放電管に照射するポンピング光発生部と、を備え、
上記スピン偏極イオンを引き出すための引き出し電極を、上記高周波放電管の端部に設けている、スピン偏極イオンビーム発生装置。
IPC (2)：
H01J 49/10 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
