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J-GLOBAL ID：201303059618314025

窒化物半導体基板の製造方法

Inventor： 一楽 洋治郎 ,  八木 健太郎 ,  井上 祐之
Applicant, Patent owner： 日亜化学工業株式会社
Agent (1)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012012762
Publication number (International publication number)：2013151388
Application date： Jan. 25, 2012
Publication date： Aug. 08, 2013
Summary：

【課題】結晶欠陥を低減させることができるとともに、窒化物半導体層を異種基板から自然剥離させることができる、高品質の窒化物半導体基板を安価に、かつ低コストで製造することができる窒化物半導体基板の製造方法を提供する。【解決手段】窒化物半導体と異なる材料からなる異種基板表面に複数の凹部を形成する第1工程、隣接する前記凹部間の上に、ラテラル成長により窒化物半導体層を成長させ、前記凹部の底面と前記窒化物半導体層との間に空隙を形成する第2工程及び、前記窒化物半導体層から、前記異種基板を除去する第3工程を有することを特徴とする窒化物半導体基板の製造方法であって、前記複数の各凹部A、B、Cが、平面形状が略正三角形の複数の枠体11によって包囲して形成される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

窒化物半導体と異なる材料からなる異種基板表面に複数の凹部を形成する第1工程、 隣接する前記凹部間の上に、ラテラル成長により窒化物半導体層を成長させ、前記凹部の底面と前記窒化物半導体層との間に空隙を形成する第2工程及び 前記窒化物半導体層から、前記異種基板を除去する第3工程を有することを特徴とする窒化物半導体基板の製造方法。

IPC (4)：

C30B 29/38 ,  H01L 33/32 ,  H01L 21/205 ,  C30B 25/04

FI (4)：

C30B29/38 D ,  H01L33/00 186 ,  H01L21/205 ,  C30B25/04

F-Term (39)：

4G077AA02 ,  4G077BE15 ,  4G077DB05 ,  4G077ED05 ,  4G077ED06 ,  4G077EE07 ,  4G077FJ03 ,  4G077HA02 ,  4G077HA12 ,  4G077TB03 ,  4G077TC17 ,  4G077TK01 ,  4G077TK06 ,  4G077TK11 ,  5F041AA40 ,  5F041CA23 ,  5F041CA40 ,  5F041CA65 ,  5F041CA67 ,  5F041CA77 ,  5F045AA04 ,  5F045AB14 ,  5F045AC07 ,  5F045AC12 ,  5F045AF02 ,  5F045AF09 ,  5F045AF11 ,  5F045AF13 ,  5F045BB12 ,  5F045CA11 ,  5F045CA12 ,  5F045DA53 ,  5F045GH08 ,  5F141AA40 ,  5F141CA23 ,  5F141CA40 ,  5F141CA65 ,  5F141CA67 ,  5F141CA77

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 窒化物半導体の成長方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-294303   Applicant：日亜化学工業株式会社
• 半導体結晶の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-210805   Applicant：豊田合成株式会社, 株式会社豊田中央研究所
• 半導体基材及びその作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-335591   Applicant：三菱電線工業株式会社