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J-GLOBAL ID：201303063070453517

高分子成形体及びその表面改質処理方法

Inventor： 瀬尾 明繁 ,  今井 英幸 ,  高田 十志和 ,  小山 靖人 ,  王 晨綱
Applicant, Patent owner： 豊田合成株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (1)： 松原 等
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012094666
Publication number (International publication number)：2013221115
Application date： Apr. 18, 2012
Publication date： Oct. 28, 2013
Summary：

【課題】高分子成形体の表面改質処理を、有毒ガスによる作業環境の悪化や排水の処理問題が生じにくい新たな化合物を用いて行う。【解決手段】分子内にニトリルオキシドと反応する多重結合を有する、NBR等の高分子材料を成形してなる高分子成形体の表面のみに、2-メトキシ-1-ナフトニトリルオキシド等のニトリルオキシド化合物を塗布し、高分子成形体表面の高分子材料にこのニトリルオキシド化合物を反応させて、高分子成形体の表面を改質処理する高分子成形体の表面改質処理方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

分子内にニトリルオキシドと反応する多重結合を有する高分子材料を成形してなる高分子成形体の表面のみに、下記の一般式[1]、[2]又は[3]で表されるニトリルオキシド化合物を塗布し、前記高分子成形体表面の前記高分子材料に前記ニトリルオキシド化合物を反応させて、前記高分子成形体の表面を改質処理する高分子成形体の表面改質処理方法。

IPC (1)：

C08J 7/12

FI (2)：

C08J7/12 A ,  C08J7/12

F-Term (8)：

4F073AA10 ,  4F073BA04 ,  4F073BA09 ,  4F073BA52 ,  4F073EA01 ,  4F073EA16 ,  4F073EA62 ,  4F073EA63

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭57-012003