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J-GLOBAL ID：201303067522835400

基板処理方法

Inventor： 福田 明 ,  福永 明
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (3)： 渡邉 勇 ,  小杉 良二 ,  廣澤 哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012267106
Publication number (International publication number)：2013201418
Application date： Dec. 06, 2012
Publication date： Oct. 03, 2013
Summary：

【課題】液処理の際に、疎水性の性状を有する基板の表面を処理液で完全に濡れた状態にしておくことで、ウォーターマークの発生を抑制できるようにする。【解決手段】略水平に回転させた基板の表面の略中心に処理液を供給して基板を処理する基板処理方法であって、基板表面に供給されて保持される処理液の該表面に対する接触角に対応した、基板表面に保持される処理液の液切れまたは部分的な乾燥を防止できる基板の回転速度と基板表面への処理液の供給流量との関係から、基板の回転速度と基板表面への処理液の供給流量を決定し、決定された回転速度で基板を回転させながら、決定された流量の処理液を基板表面の略中心に供給する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

略水平に回転させた基板の表面の略中心に処理液を供給して基板を処理する基板処理方法であって、 基板表面に供給されて保持される処理液の該表面に対する接触角に対応した、基板表面に保持される処理液の液切れまたは部分的な乾燥を防止できる基板の回転速度と基板表面への処理液の供給流量との関係から、基板の回転速度と基板表面への処理液の供給流量を決定し、 決定された回転速度で基板を回転させながら、決定された流量の処理液を基板表面の略中心に供給することを特徴とする基板処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/30 572B

F-Term (16)：

5F146MA06 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BC19 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CD31 ,  5F157CD41 ,  5F157CE07 ,  5F157CE32 ,  5F157CE42 ,  5F157CE82 ,  5F157DB37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 基板処理装置および基板処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-355944   Applicant：株式会社荏原製作所