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J-GLOBAL ID：201303070264931629

媒質に照射を行う装置及び方法

Inventor：
増村 考洋

About 増村 考洋


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (6)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012530949
Publication number (International publication number)：2013505110
Application date： Sep. 17, 2010
Publication date： Feb. 14, 2013
Summary：
媒質に照射を行う方法は、媒質中で散乱され且つ媒質中のある位置で周波数変調される電磁波を媒質に照射することと、変調された電磁波と参照波との間の干渉により生成される干渉パターンに対応する情報を取得することと、取得された情報に基づいて、媒質に照射される位相共役波を発生することとを含む。
Claim (excerpt)：
電磁波を放射する電磁波源を含み、媒質中で散乱される前記電磁波を前記媒質に照射する第1の照射ユニットと、 前記媒質中のある特定位置で前記電磁波の周波数を変調するために前記媒質へ超音波を送信する超音波装置と、 前記変調された電磁波と参照波との間の干渉により生成される干渉パターンに対応する情報を記録するために参照波をホログラフィック材料に照射する第2の照射ユニットとを備え、 前記第1の照射ユニットは、前記情報が前記ホログラフィック材料に記録された後、前記媒質中の前記位置で前記媒質に照射される再構成波を前記ホログラフィック材料が発生するように、前記ホログラフィック材料に照射を行うように構成されることを特徴とする装置。
IPC (4)：
A61N 5/067 ,  A61B 8/00 ,  A61B 18/00 ,  A61B 18/20
FI (4)：
A61N5/06 E ,  A61B8/00 ,  A61B17/36 330 ,  A61B17/36 350
F-Term (22)：
4C026FF03 ,  4C026FF11 ,  4C026FF34 ,  4C026FF37 ,  4C026FF52 ,  4C026FF53 ,  4C026HH02 ,  4C026HH04 ,  4C026HH18 ,  4C082RE03 ,  4C082RE32 ,  4C082RE34 ,  4C082RE60 ,  4C082RL02 ,  4C082RL04 ,  4C082RL18 ,  4C082RL30 ,  4C160MM32 ,  4C601DD18 ,  4C601DE16 ,  4C601EE05 ,  4C601FF15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 準実時間光位相共役
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2012-528962   Applicant：バイオ-ラドラボラトリーズインコーポレイテッド
  • 特開平1-178267

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