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J-GLOBAL ID：201303079421822682

画像処理用マスク生成方法、画像処理用マスク生成プログラム、画像処理装置及び画像処理プログラム

Inventor：
石坂 敢也

About 石坂 敢也


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (3)： 清水 昇 ,  在原 元司 ,  竹居 信利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012057354
Publication number (International publication number)：2013192072
Application date： Mar. 14, 2012
Publication date： Sep. 26, 2013
Summary：
【課題】画像処理用マスクの生成にあたって、クラスタの形状を指定することなく、高品位な画像処理用マスクを生成可能な画像処理用マスク生成方法を提供する。【解決手段】画像処理用マスク生成方法は、画像処理用マスク内の各点におけるクラスタエネルギーを算出する算出ステップと、前記算出ステップによって算出されたクラスタエネルギーの値に基づいて、昇順又は降順に順位付けを行う順位付ステップと、前記順位付ステップによる処理結果である順位に基づいて、画像処理用マスク内の閾値を割り当てる閾値割当ステップを行い、前記算出ステップによるクラスタエネルギーの算出は、注目点xと、該注目点xを含まないクラスタに属する点yとの間の距離‖x-y‖を変数とする相互影響値fr(‖x-y‖)の総和により定義される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
画像処理用マスク内の各点におけるクラスタエネルギーを算出する算出ステップと、 前記算出ステップによって算出されたクラスタエネルギーの値に基づいて、昇順又は降順に順位付けを行う順位付ステップと、 前記順位付ステップによる処理結果である順位に基づいて、画像処理用マスク内の閾値を割り当てる閾値割当ステップ を行い、 前記算出ステップによるクラスタエネルギーの算出は、注目点xと、該注目点xを含まないクラスタに属する点yとの間の距離‖x-y‖を変数とする相互影響値fr(‖x-y‖)の総和により定義される ことを特徴とする画像処理用マスク生成方法。
IPC (4)：
H04N 1/405 ,  G06T 1/00 ,  H04N 1/40 ,  B41J 2/52
FI (4)：
H04N1/40 C ,  G06T1/00 500A ,  H04N1/40 103B ,  B41J3/00 A
F-Term (23)：
2C262AB13 ,  2C262BB03 ,  2C262BB22 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CB19 ,  5B057CF04 ,  5B057DA08 ,  5B057DC14 ,  5B057DC22 ,  5C077LL17 ,  5C077LL19 ,  5C077MP08 ,  5C077NN06 ,  5C077NN07 ,  5C077PP32 ,  5C077PP33 ,  5C077RR05 ,  5C077RR14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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