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J-GLOBAL ID:201303099608135540

レーザ加工装置、及びレーザ発振装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011190077
Publication number (International publication number):2013055084
Application date: Aug. 31, 2011
Publication date: Mar. 21, 2013
Summary:
【課題】戻り光の光量が所定の光量を超えているか否かを正確に判定できるレーザ加工装置、及びレーザ発振装置を提供すること。【解決手段】信号用レーザ光を増幅する主増幅部と、増幅したレーザ光Lを出射するレーザ出射部の間に設けられ、主増幅部から第1の光路L1を通って入射されるレーザ光Lをレーザ出射部側の第2の光路L2へ出射する一方で、第2の光路L2を通って入射される戻り光を第1の光路L1とは異なる第3の光路L3へ出射する偏波無依存型の光アイソレータ50と、光アイソレータ50から第3の光路L3へ出射された戻り光を検出し、検出した戻り光の光量に応じた検出信号を出力する受光素子57と、受光素子57が出力する検出信号に基づいて戻り光の光量が所定の光量を超えているか否かを判定する制御部を備えた。【選択図】図2
Claim (excerpt):
種光源から出射されたレーザ光を、希土類元素が添加された希土類添加光ファイバ内において励起光源からの励起光により増幅し、該増幅されたレーザ光を収束手段により収束させるとともに、光走査機構により方向を変更して照射位置を走査させつつレーザ出射部から加工対象物に照射するレーザ加工装置であって、 前記希土類添加光ファイバと前記レーザ出射部の間に設けられ、前記希土類添加光ファイバから第1の光路を通って入射されるレーザ光を前記レーザ出射部側の第2の光路へ出射する一方で、前記第2の光路を通って入射される戻り光を前記第1の光路とは異なる第3の光路へ出射する偏波無依存型光アイソレータと、 前記偏波無依存型光アイソレータから前記第3の光路へ出射された戻り光を検出し、検出した戻り光の光量に応じた検出信号を出力する検出手段と、 前記検出手段が出力する検出信号に基づいて戻り光の光量が所定の光量を超えているか否かを判定する判定手段と、を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (5):
H01S 3/067 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  H01S 3/00
FI (6):
H01S3/06 B ,  B23K26/00 M ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/08 B ,  B23K26/08 K ,  H01S3/00 B
F-Term (13):
4E068AA00 ,  4E068CA17 ,  4E068CB08 ,  4E068CC01 ,  4E068CD08 ,  4E068CE03 ,  4E068CE08 ,  5F172AF06 ,  5F172AM08 ,  5F172EE15 ,  5F172NR13 ,  5F172NR14 ,  5F172ZZ01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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