Surface effect on ion track formation in amorphous Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> films

MORITA Y.; NAKAJIMA K.; SUZUKI M.; NARUMI K.; SAITOH Y.; ISHIKAWA N.; HOJOU K.; TSUJIMOTO M.; ISODA S.; KIMURA K.

Art

J-GLOBAL ID：201402210263284484 Reference number：14A0657045

Surface effect on ion track formation in amorphous Si₃N₄ films

非晶質Si₃N₄膜におけるイオン軌跡形成に対する表面効果

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Volume： 315 Page： 142-145 Publication year： Nov. 15, 2013
JST Material Number： H0899A ISSN： 0168-583X Document type： Article
Country of issue： Netherlands (NLD) Language： ENGLISH (EN)

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Surface effect on ion track formation in amorphous Si3N4 films

Surface effect on ion track formation in amorphous Si₃N₄ films