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J-GLOBAL ID：201402216095835990   Reference number：14A0946099

Study on Polishing Mechanism of Single Crystal Substrate by UV-Excitation

紫外光励起による単結晶ダイヤモンドの研磨メカニズムに関する研究

Author (7)： TOGE MUTSUMI (熊本大学大学院) ,  NAGANO TAKUGI (熊本大学大学院) ,  TAGAWA TOMOHIKO (熊本大学大学院) ,  SAKAMOTO TAKESHI (熊本大学大学院) ,  YOKOI HIROYUKI (熊本大学大学院) ,  IWAMOTO CHIHIRO (熊本大学大学院) ,  WATANABE JUNJI (熊本大学大学院)
Material： 精密工学会誌(Web)  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Web))
Volume： 80  Issue： 1  Page： 112-116 (J-STAGE)  Publication year： 2014 
JST Material Number： U0462A  ISSN： 1882-675X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ultraviolet radiation ,  excitation (physics) ,  single crystal ,  *Diamond ,  *polishing (machining) ,  carbon material ,  molecular cluster ,  *semiconductor device ,  transmission electron microscope ,  infrared spectroscopy ,  substrate (plate) ,  Quartz ,  oxidation ,  *ore ,  *precious stone ,  *machining

JST classification (2)： Materials of solid-state devices  (NC03020K) ,  Grinding  (QC03000R)

Reference (23)：

• 1) 鹿田真一:パワーデバイス応用に向けたダイヤモンド半導体の開発状況,応用物理,82,4 (2013) 299.
• 2) 楊政峰,吉川昌範:熱化学反応によるダイヤモンド膜の研磨—研磨メカニズムについて,精密工学会誌,57,3 (1991) 504.
• 3) 手塚信一,吉川昌範:YAGレーザー照射による気相合成ダイヤモンド薄板の加工,精密工学会誌,56,12(1990) 2255.
• 4) A. M. Ozkan, A. P. Makshe and W. D. Brown : Sequential Multiple-laser-assisted Polishing of Free-standing CVD Diamond Substrates, Diamond Relat. Mater., 6, 11(1997) 1789.
• 5) A. Hirata, H. Tokura and M. Yoshikawa : Smoothing of Chemically Vapour Deposited Diamond Films by Ion Beam Irradiation, Thin Solid Films, 212 (1997) 43.

Terms in the title (6)： 紫外光 ,  励起 ,  単結晶ダイヤモンド ,  研磨 ,  メカニズム ,  研究