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J-GLOBAL ID：201402220599404530   Reference number：14A0718194

Development of the dual reactor to synthesize ZnO transparent conductive film for the multi-plasma ion plating

マルチプラズマイオンプレーティングに向けたデュアルZnO透明導電膜合成装置の開発

Author (4)： SATO NAOYUKI (茨城大) ,  OKI HIROSHI (ビームトロン) ,  NEYA KAZUTSUGU (ビームトロン) ,  SATO TATSUSHI (ビームトロン)
Material： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： PST-14  Issue： 1-18  Page： 53-58  Publication year： May. 09, 2014 
JST Material Number： Z0951A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma device ,  ion plating ,  *zinc oxide
Semi thesaurus term： *ZnO ,  ZnO透明導電膜 ,  *プラズマイオンプレーティング ,  *成膜装置

JST classification (3)： Plasma devices  (BJ02082I) ,  Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Plasma production and heating  (BJ02060E)

Reference (38)：

• I. Hamberg and C.G. Granqvist: "Evaporated Sn-doped In₂O₃ films: Basic optical properties and applications to energy-efficient windows", J. Appl. Phys. 60, R123 (1986). http://dx.doi.org/10.1063/1.337534(38pages).
• 馬来国弼 他:「透明導電膜の技術」オーム社(2007).
• C.G. Granqvist and A. Hultaker: "Transparent and conducting ITO films: new developments and applications", Thin Solid Films 411, pp.1-5 (2002).
• 革新的太陽光発電技術研究開発-中間評価説明資料(2010). http://www.nedo.go.jp/content/100095821.pdf.
• 佐藤直幸他:「多接合太陽電池向けフルスペクトルZnO透明導電膜の低気圧高周波プラズマ合成」電気学会プラズマ研究会資料 PST-11-002,pp.3-8(2011).

Terms in the title (4)： デュアル ,  ZnO ,  透明導電膜 ,  開発