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J-GLOBAL ID：201402240953799564   Reference number：14A1375112

Epitaxial Growth of n-Tridecane Low-Pressure Phase Filmy Crystal on Its High-Pressure Phase

n-トリデカン低圧相の薄膜結晶のその高圧相上へのエピタキシャル成長

Author (4)： SHIGEMATSU Koji (Iwate Univ., Morioka, JPN) ,  SAWAMURA Seiji (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  CHIBA Wataru (Iwate Univ., Morioka, JPN) ,  TAKAHASHI Yoshinori (Iwate Univ., Morioka, JPN)
Material： Crystal Growth & Design  (Cryst Growth Des)
Volume： 14  Issue： 11  Page： 5549-5553  Publication year： Nov. 2014 
JST Material Number： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polymorphism ,  liquid ,  *rhombic system ,  *hexagonal system ,  *polymorphic transition ,  pressure ,  temperature dependence ,  *solid-liquid equilibrium ,  solid-liquid interface ,  thin film growth ,  *epitaxy ,  alkane
Semi thesaurus term： surface free energy

JST classification (3)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Thin films of organic compounds  (BK14070L) ,  Phase equilibrium,phase diagram of one-component systems  (CB03013K)

Substance index (1)： Tridecane

Terms in the title (6)： n-トリデカン ,  低圧 ,  薄膜 ,  結晶 ,  高圧相 ,  エピタキシャル成長