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J-GLOBAL ID：201402242427712589   Reference number：14A0439221

PXG and PRS: Expanding the Concept of Photoinitiator to Photo-X-Generator and Photoreactive Solubilizer

PXGおよびPRS:光-X-発生剤および光反応性可溶化剤への光開始剤の概念の拡大

Author (1)： TAKAHARA Shigeru (Chiba Univ., Chiba, JPN)
Material： 日本印刷学会誌  (Journal of Printing Science and Technology)
Volume： 51  Issue： 1  Page： 035-040 (J-STAGE)  Publication year： 2014 
JST Material Number： G0233A  ISSN： 0914-3319  CODEN： NIGAEV  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photoinitiator ,  photoacid generator ,  photosensitizer ,  photobase generator ,  chemically amplified resist ,  multifunctional additive ,  photolysis/photodisintegration ,  single-walled carbon nanotube ,  pattern formation ,  solubilizing agent ,  probe ,  matter ,  lithography ,  printing (graphic arts) ,  Electronics ,  *photosensitive material ,  photoirradiation ,  photochemical reaction ,  fluorescence probe ,  photochromic compound
Semi thesaurus term： nano lithography ,  photochromic ,  光ラジカル発生剤 ,  光反応性可溶化剤 ,  photo ampholyte compound generator

JST classification (3)： Photosensitive materials  (ZA03020Q) ,  Printing technology in general  (ZA05010T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (16)：

• 1) Iida, A. (2008). J. Printing Sci. and Technol., 45 (5), 453.
• 2) Reiser, A. (1989). Photoreactive Polymers: the Science and Technology of Resists, New York: John Wiley and Sons.
• 3) Crivello, J. V., Dietliker, K., Bradley, G. (1998). Photoinitiators for Free Radical Cationic and Anionic Photopolymerisation, 2 nd Ed., 379-405, New York John: Wiley and Sons.
• 4) Castellanos, F., Fouassier, J. P., Priou, C., Cavezzan, J. (1996). J. Appl. Polym. Sci., 60, 705.
• 5) Lee, J., Miyagawa, N., Takahara, S., Yamaoka, T. (2000). J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (5), 711.

Terms in the title (6)： PRS ,  光反応性 ,  可溶化剤 ,  光開始剤 ,  概念 ,  拡大