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J-GLOBAL ID：201402273086389434   Reference number：14A1463557

Crystal Growth Mechanism of Tin Dioxide Thin Film by Spray Pyrolysis Method

スプレー熱分解法によるSnO₂系透明導電膜の成長メカニズムの解明

Author (3)： OSHIMA MINORU (宮崎大) ,  YOSHINO KENJI (宮崎大) ,  IKARI TETSUO (宮崎大)
Material： 宮崎大学工学部紀要(Web)  (Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki (Web))
Issue： 42  Page： 95-102 (WEB ONLY)  Publication year： Aug. 30, 2013 
JST Material Number： U0521A  ISSN： 0540-4924  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *transparent conducting thin films ,  *thermal decomposition ,  *tin oxide ,  *chemical vapor deposition ,  *doping ,  fluorine ,  simulation ,  tin chloride ,  ammonium fluoride ,  substrate (plate) ,  Glass ,  film thickness ,  painting and coating ,  time dependence ,  dependence ,  *carrier density ,  *carrier mobility ,  *optical absorption ,  crystal orientation ,  orientation (direction) ,  *spray pyrolysis ,  molecular simulation ,  film thickness dependence
Semi thesaurus term： プラズマ共鳴吸収

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (4)： スプレー ,  SnO2 ,  透明導電膜 ,  成長メカニズム