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J-GLOBAL ID：201402275572220428   Reference number：14A0369626

高周波重畳直流スパッタAl添加ZnO透明電導電膜の電気特性に対する成膜電力の最適化

Author (6)： NOMOTO JUN'ICHI (高知工科大 総研) ,  SONG H. (高知工科大 総研) ,  MAKINO HISAO (高知工科大 総研) ,  KISHIMOTO SEIICHI (高知工科大 総研) ,  KISHIMOTO SEIICHI (高知工高専) ,  YAMAMOTO TETSUYA (高知工科大 総研)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 61st  Page： ROMBUNNO.18A-E10-6  Publication year： Mar. 03, 2014 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： RF sputtering ,  zinc oxide ,  compound semiconductor ,  semiconductor material ,  semiconductor thin film ,  *transparent conducting thin films ,  *optimization ,  *thin film growth ,  Aluminum ,  doping ,  *modification
Semi thesaurus term： *electric power optimization

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (10)： 高周波 ,  重畳 ,  直流 ,  スパッタ ,  Al ,  ZnO ,  導電膜 ,  電気特性 ,  成膜 ,  最適化