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J-GLOBAL ID：201402284933482669   Reference number：14A0594140

次世代洗浄システムによるデバイス製造工程のパラダイムシフト

Author (5)： NAKANO SHIN'ICHI (アクア化学) ,  YAMAMOTO KEN (アクア化学) ,  HASEBE SHINJI (京大 大学院) ,  YATA SHIHO (奈良女大 大学院) ,  YOSHIMURA TOMOKAZU (奈良女大 大学院)
Material： コンバーテック  (Convertech)
Volume： 42  Issue： 5  Page： 71-73  Publication year： May. 15, 2014 
JST Material Number： Y0873A  ISSN： 0911-2316  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： green chemistry ,  *solid state device ,  *production process ,  technological innovation ,  *cleaning agent ,  *process(production) ,  variation ,  *microemulsion ,  slurry ,  pitch(bitumen) ,  wax ,  improvement of efficiency ,  decompression ,  ultrasonic cleaning ,  vacuum drying ,  distillation ,  regeneration
Semi thesaurus term： paradigm shift ,  efficiency upgrading ,  next generation ,  steam cleaning ,  *cleaning process ,  *electron device

JST classification (4)： Synthetic detergents  (YG02030L) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applied physicochemical processes and equipment  (XE03000E) ,  Type of production  (KB03020E)

Reference (1)：

• 安井久一 : 産業洗浄, No.10, p.8 (2012.9)

Terms in the title (4)： 次世代 ,  洗浄システム ,  製造工程 ,  パラダイムシフト