Pat
J-GLOBAL ID：201403007215113515
洗剤及び清浄剤へのスケール防止添加剤として使用するカルボン酸基、スルホン酸基及びポリアルキレンオキシド基を含有するコポリマー
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
平木 祐輔
, 藤田 節
, 新井 栄一
, 田中 夏夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013540304
Publication number (International publication number)：2014500903
Application date： Nov. 18, 2011
Publication date： Jan. 16, 2014
Summary：
本発明は、重合によって組み込まれた、a1)少なくとも1種のモノエチレン性不飽和C3〜C8-カルボン酸、その無水物又は塩を30〜90重量%、a2)スルホン酸基を含有する少なくとも1種のモノマーを3〜60重量%、a3)少なくとも1種の式I:H2C=C(R1)(CH2)xO[R2-O]o-R3(I)の非イオン性モノマーを3〜60重量%(式中、R1は水素又はメチルであり、R2は同一である又は異なっている直鎖又は分岐C2〜C6-アルキレン残基であり、ブロック又はランダムに配列することができ、R3は水素又は直鎖もしくは分岐C1〜C4アルキル残基であり、xは0、1又は2であり、oは3から50の自然数である)、a4)これらa1)、a2)及びa3)と重合可能な1種又は複数のさらなるエチレン性不飽和モノマーを0〜30重量%含有し、a1)、a2)、a3)及びa4)の合計は100重量%である、コポリマーに関する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
共重合された形態で、
a1) 少なくとも1種のモノエチレン性不飽和C3〜C8-カルボン酸、又はその無水物もしくは塩を30〜90重量%、
a2) スルホ基を含む少なくとも1種のモノマーを3〜60重量%、
a3) 少なくとも1種の式Iの非イオン性モノマー
H2C=C(R1)(CH2)xO[R2-O]o-R3 (I)
(式中、R1は水素又はメチルであり、R2は同一である又は異なっている直鎖又は分岐C2〜C6-アルキレン基であり、ブロック又はランダムに配列していてもよく、R3は水素又は直鎖もしくは分岐C1〜C4-アルキル基であり、xは0、1又は2であり、oは3から50の自然数である)
を3〜60重量%、
a4) a1)、a2)及びa3)と重合可能な1種又は複数のさらなるエチレン性不飽和モノマーを0〜30重量%
含み、
a1)、a2)、a3)及びa4)の合計が100重量%である、
コポリマー。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (21)：
4H003BA12
, 4H003DA05
, 4H003DA09
, 4H003DA17
, 4H003DA19
, 4H003EA09
, 4H003EA15
, 4H003EA16
, 4H003EB08
, 4H003EB12
, 4H003EB16
, 4H003EB24
, 4H003EB28
, 4H003EB30
, 4H003EB34
, 4H003EC02
, 4H003EC03
, 4H003ED02
, 4H003EE05
, 4H003FA07
, 4H003FA21
Cited by examiner (8)
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