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J-GLOBAL ID：201403040548855150

放射線ビーム照射対象位置決め装置およびその位置決め方法

Inventor： 森 慎一郎 ,  福原 力 ,  羽石 秀昭
Applicant, Patent owner： 独立行政法人放射線医学総合研究所 ,  国立大学法人 千葉大学
Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010081631
Publication number (International publication number)：2011212130
Patent number：5489037
Application date： Mar. 31, 2010
Publication date： Oct. 27, 2011
Claim (excerpt)：

【請求項1】 放射線ビーム照射対象位置に放射線ビームを照射する照射計画立案時の前回の前記放射線ビーム照射対象位置と、実際に放射線ビームを前記放射線ビーム照射対象に照射する今回の前記放射線ビーム照射対象の位置との位置ずれを明らかにし、放射線照射時の前記放射線ビーム照射対象の位置決めを行うための放射線ビーム照射対象位置決め装置であって、 前記前回の前記放射線ビーム照射対象を第1方向から撮影した前回の第1投影画像と当該第1方向とは異なる第2方向から前記前回の放射線ビーム照射対象を撮影した前回の第2投影画像とを表示装置で表示し、かつ、前記今回の前記放射線ビーム照射対象を第3方向から撮影した今回の第1投影画像と当該第3方向とは異なる第4方向から前記今回の放射線ビーム照射対象を撮影した今回の第2投影画像とを表示装置で表示する第1表示部と、 前記前回の第1投影画像でユーザにより前記放射線ビーム照射対象の特徴点として指示される前回の第1指示点のエピポーラ拘束によって、前記前回の第2投影画像での前回の直線を求め、かつ、前記今回の第1投影画像でユーザにより前記特徴点として指示される今回の第1指示点のエピポーラ拘束によって、前記今回の第2投影画像での今回の直線を求めるか、或いは、 前記今回の第1投影画像でユーザにより前記放射線ビーム照射対象の特徴点として指示される今回の第1指示点のエピポーラ拘束によって、前記今回の第2投影画像での今回の直線を求め、かつ、前記前回の第1投影画像でユーザにより前記特徴点として指示される前回の第1指示点のエピポーラ拘束によって、前記前回の第2投影画像での前回の直線を求める第1演算部と、 前記前回の直線を前記前回の第2投影画像に表示装置で表示し、かつ、前記今回の直線を前記今回の第2投影画像に表示装置で表示する第2表示部と、 前記前回の第2投影画像に表示された前記前回の直線上に前記特徴点としてユーザにより指示される前回の第2指示点と、前記前回の第1指示点とから、前記前回の特徴点の位置を演算し、かつ、前記今回の第2投影画像に表示された前記今回の直線上に前記特徴点としてユーザにより指示される今回の第2指示点と、前記今回の第1指示点とから、前記今回の特徴点の位置を演算する第2演算部と、 前記前回の特徴点と前記今回の特徴点との間の位置ずれ量を演算し、当該位置ずれ量を基に、前記放射線ビーム照射対象の前記前回の位置と前記今回の位置との位置ずれ量を演算する第3演算部と、 該演算した前記放射線ビーム照射対象の位置ずれ量を出力する出力部とを 備えることを特徴とする放射線ビーム照射対象位置決め装置。

IPC (1)：

A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (1)：

A61N 5/10 M