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J-GLOBAL ID：201403047728096782
法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
柳野 隆生
, 森岡 則夫
, 関口 久由
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010182197
Publication number (International publication number)：2012042266
Patent number：5517062
Application date： Aug. 17, 2010
Publication date： Mar. 01, 2012
Claim (excerpt)：
【請求項1】 少なくとも2軸2組のゴニオメータと、その回転中心間の距離を変える1軸直進ステージとで構成し、1組のゴニオメータは試料系を構成し、その可動部に被測定物を保持し、もう1組のゴニオメータは光学系を構成し、その可動部に光源と4分割フォトダイオード(QPD)を用いた零位法による光検出器を設け、光源から出射された計測ビームと被測定物表面で反射された反射ビームが完全に重なるように、2軸2組のゴニオメータを制御するとともに、光検出器と被測定物表面間の光路長Lが一定になるように1軸直進ステージを制御して、被測定物表面の任意計測点の法線ベクトルを計測することから形状を求める法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法において、2軸2組のゴニオメータと1軸の直進ステージの内、2軸1組のゴニオメータと1軸の直進ステージは、QPDからの出力を直接軸駆動モータに入力するフルクローズドフィードバック制御(追従制御)にするとともに、残り2軸1組のゴニオメータはセミクローズドフィードバック制御(定値制御)とし、各軸のエンコーダ出力とQPD出力とを同時に取得し、前記エンコーダ出力から導出する計測点座標と法線ベクトルをQPD出力で補正して、ゴニオメータ制御系の定常偏差の影響を排除したことを特徴とする法線ベクトル追跡型超精密形状測定方法。
IPC (1)：
FI (1)：
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