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J-GLOBAL ID：201403085270872752

膜加工方法

Inventor： 佐藤 了平 ,  岩田 剛治 ,  宮川 春彦 ,  牛 光耀
Applicant, Patent owner： 国立大学法人大阪大学 ,  旭硝子株式会社
Agent (3)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  竹本 洋一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011176114
Publication number (International publication number)：2014205147
Application date： Aug. 11, 2011
Publication date： Oct. 30, 2014
Summary：

【課題】低エネルギーで行われ、かつ、加工精度や加工品質にも優れた、膜加工方法を提供する。【解決手段】基板の一方の面上に形成された膜の除去予定部位をレーザ光の照射により除去して、除去部を形成する膜加工方法であって、上記レーザ光の照射は、パルスレーザ光源からレーザ光を2ショット以上照射するものであり、1ショット目の上記レーザ光が、上記除去予定部位における膜平面に垂直な方向の50%以上100%未満を除去するエネルギー密度を有し、2ショット目以降の各ショットの上記レーザ光が、上記1ショット目の上記レーザ光が有するエネルギー密度の50〜100%のエネルギー密度を有し、上記レーザ光のショット間隔が、1秒以上である、膜加工方法。【選択図】図3A

Claim (excerpt)：

基板の一方の面上に形成された膜の除去予定部位をレーザ光の照射により除去して、除去部を形成する膜加工方法であって、 前記レーザ光の照射は、パルスレーザ光源からレーザ光を2ショット以上照射するものであり、 1ショット目の前記レーザ光が、前記除去予定部位における膜平面に垂直な方向の50%以上100%未満を除去するエネルギー密度を有し、 2ショット目以降の各ショットの前記レーザ光が、前記1ショット目の前記レーザ光が有するエネルギー密度の50〜100%のエネルギー密度を有し、 前記レーザ光のショット間隔が、1秒以上である、膜加工方法。

IPC (3)：

B23K 26/36 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/18

FI (3)：

B23K26/36 ,  B23K26/00 N ,  B23K26/18

F-Term (7)：

4E068AH00 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA16 ,  4E068CF00 ,  4E068DA09 ,  4E068DB01