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J-GLOBAL ID：201403089680503580
パターン認識装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
野河 信太郎
, 甲斐 伸二
, 金子 裕輔
, 稲本 潔
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010550519
Patent number：5522408
Application date： Feb. 09, 2010
Claim (excerpt)：
【請求項1】 少なくとも1片のパターン要素から構成され、アフィン変換または相似変換のいずれかの幾何学的変換を受けたクエリ画像からその少なくとも1片のパターン要素を切り出す切り出し部と、
前記パターン要素の中にあってそのパターン要素から所定の規則に基づいて特定される第1、第2および第3特徴点を含む少なくとも3つの特徴点により表される前記パターン要素の特徴であって前記幾何学的変換に対し不変な特徴をクエリ特徴量として取得する特徴量取得部と、
パターン認識の候補として用意された複数の異なる参照パターンの特徴をそれぞれ表す複数の参照特徴量と前記クエリ特徴量とを照合する照合部と、
照合された特徴量の類似性に基づいて、前記候補の中から特定された参照パターンを認識結果として決定するパターン決定部とを備え、
各参照特徴量は、前記規則に基づいて各参照パターンから決定される特徴点を用いて表され、
前記規則に基づき、前記第1特徴点の位置は前記パターン要素の中にあって前記幾何学的変換に対して不変な点に特定され、前記第2特徴点の位置は前記パターン要素の形状に関する性質であって前記幾何学的変換に対し不変な性質を用いて特定され、前記第3特徴点の位置は前記幾何学的変換に対し不変な所定量と決定された第1および第2特徴点の位置とから特定されることを特徴とするパターン認識装置。
IPC (2)：
G06K 9/46 ( 200 6.01)
, G06T 7/00 ( 200 6.01)
G06K 9/46 A
, G06T 7/00 300 F
Cited by examiner (6)
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