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J-GLOBAL ID:201501015326654950   Update date: Feb. 14, 2024

Horita Masahiro

ホリタ マサヒロ | Horita Masahiro
Affiliation and department:
Job title: Associate professor
Research field  (2): Crystal engineering ,  Electric/electronic material engineering
Research keywords  (2): 電子デバイス ,  III-N semiconductor
Research theme for competitive and other funds  (4):
  • 2015 - 2016 高圧水中レーザーアニールによる窒化ガリウム超臨界水低温酸化手法の創出
  • 2011 - 2013 積層構造レーザーアニールによる非晶質基板上単結晶ゲルマニウム薄膜の低温形成
  • 2009 - 2011 同一ポリタイプ4H-AlN/4H-SiCヘテロ界面の電子デバイス応用に関する研究
  • 2008 - 2009 炭化珪素基板上高品質無極性面III族窒化物の成長と電子・光デバイス応用に関する研究
Papers (68):
Lectures and oral presentations  (1):
  • Characterization of lightly-doped n- and p-type homoepitaxial GaN on free-standing substrates
    (IMFEDK 2017 - 2017 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai 2017)
Education (1):
  • 2006 - 2009 Kyoto University Graduate School, Division of Engineering
Professional career (1):
  • 博士(工学) (京都大学)
Work history (5):
  • 2018/10/01 - 現在 Nagoya University Graduate School of Engineering Electronics 2 Associate professor
  • 2018/10/01 - 2038/03/31 Nagoya University Institute of Materials and Systems for Sustainability Center for Integrated Research of Future Electronics Innovative Devices Section
  • 2015/05/01 - 2018/09/30 京都大学大学院 工学研究科電子工学専攻 特定助教
  • 2009/04/01 - 2015/04/30 Nara Institute of Science and Technology Graduate School of Materials Science
  • 2008/04/01 - 2009/03/31 日本学術振興会 特別研究員(DC2)
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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