Art

J-GLOBAL ID：201502214333208792   Reference number：15A1047626

大気圧マイクロプラズマによるDLC局所成長

Author (3)： YOSHIKI HIROYUKI (鶴岡工高専) ,  YAGYU RYO (鶴岡工高専) ,  YAGYU RYO (東北電力)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 76th  Page： ROMBUNNO.16P-2Q-5  Publication year： Aug. 31, 2015 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma ,  *diamond-like carbon ,  thin film growth ,  plasma flow ,  light emission ,  emission spectrometry ,  *plasma CVD ,  Aluminum ,  wafer ,  alkane ,  hydroxy group ,  plasma emission ,  atmospheric microplasma ,  Si wafer
Semi thesaurus term： hydroxyl group ,  DLC (carbon) ,  silicon substrate

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Substance index (1)： Methane

Terms in the title (3)： 大気圧マイクロプラズマ ,  DLC ,  成長