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J-GLOBAL ID：201502225330233290   Reference number：15A0582253

Si基板上への金ナノ粒子の位置制御配列

Author (3)： ITO KAZUO (群馬大) ,  MASUYAMA TAKAYUKI (群馬大) ,  NOGUCHI KATSUYA (群馬大)
Material： 群馬大学高度人材育成センター年報  (Annual Report of GU-HRCC)
Issue： 18  Page： 12-13  Publication year： Jan. 2015 
JST Material Number： L6814A  Document type： Year Book
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nano particle ,  *Gold ,  *position control ,  sequence and arrangement ,  electron beam lithography ,  wet etching ,  indentation (recess) ,  pure water ,  *silicon ,  aliphatic alcohol ,  aliphatic carboxylic acid ,  hydroxy acid ,  polycarboxylic acid ,  Gold Colloid ,  *gold nanoparticle ,  *Si wafer
Semi thesaurus term： *silicon substrate ,  rinse

JST classification (2)： Atomic and molecular clusters  (BH09030O) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Citric acid

Terms in the title (3)： Si基板 ,  金ナノ粒子 ,  位置制御