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J-GLOBAL ID：201503011224442527

フルオロシリル基を有する化合物及びその製造方法

Inventor： 國信 洋一郎 ,  金井 求 ,  肖 卿
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 東京大学
Agent (6)： 岩瀬 吉和 ,  小野 誠 ,  金山 賢教 ,  坪倉 道明 ,  重森 一輝 ,  城山 康文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014008359
Publication number (International publication number)：2015137239
Application date： Jan. 21, 2014
Publication date： Jul. 30, 2015
Summary：

【課題】高い発光効率を有し、かつ低分子量で容易に製造可能な新規フルオロシリル化化合物を提供。【解決手段】式(1)で表される化合物。(R1、R2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アリール、アルコキシ、パーフルオロアルキル、シアノ、ニトロ、及びエステルから選択される置換基に代表され;又は、隣接する2つのR1又はR2が存在する場合、それらが結合している炭素原子と一緒になって、環構造を形成し、又は、1つのR1と1つのR2が、それらが結合している炭素原子と一緒になって、環構造を形成してもよい。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

以下の式(1)で表される化合物。

IPC (1)：

C07F 7/12

FI (3)：

C07F7/12 D ,  C07F7/12 W ,  C07F7/12 G

F-Term (16)：

4H039CA92 ,  4H039CD10 ,  4H039CD90 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ59 ,  4H049VR23 ,  4H049VR31 ,  4H049VS39 ,  4H049VS97 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU24 ,  4H049VU29 ,  4H049VW02