新規ピラゾール誘導体

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：小林浩 , 星川亮 , 鈴木康仁
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014218099
Publication number (International publication number)：2015042659
Patent number：5816353
Application date： Oct. 27, 2014
Publication date： Mar. 05, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】下記式(I’): [pは0〜3の整数を表わし;Lは水酸基、ハロゲン原子、C1〜6アルコキシル基、C6〜14アリールオキシ基、またはC7〜20アラルキルオキシ基を表わし;R1は各々独立して、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、C1〜6アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、ハロゲン化C1〜6アルキル基、C2〜6アルケニル基、C1〜6アルコキシル基、ハロゲン化C1〜6アルコキシル基、C1〜6アルコキシルカルボニル基、C1〜6アルコキシルC2〜6アルケニル基、ヒドロキシC1〜6アルキル基、C1〜6アルコキシルC1〜6アルキル基、C2〜7アルカノイル基、C1〜6アルキルチオ基、C1〜6アルキルスルフィニル基、C1〜6アルキルスルホニル基、3〜14員非芳香族複素環基、5〜7員単環式ヘテロアリール基、-NR7R8基、又は-CONR7R8基(-NR7R8基および-CONR7R8基におけるR7およびR8は各々独立して、水素原子、C1〜6アルキル基、ハロゲン化C1〜6アルキル基、ヒドロキシC1〜6アルキル基、シアノ化C1〜6アルキル基、C2〜6アルケニル基、C2〜6アルキニル基、C3〜8シクロアルキル基、C6〜14アリール基、C7〜20アラルキル基、複素環基、C2〜7アルカノイル基、ヒドロキシC2〜7アルカノイル基、ハロゲン化C2〜7アルカノイル基、C3〜8シクロアルキルカルボニル基、C6〜14アリールカルボニル基、C7〜20アラルキルカルボニル基、複素環カルボニル基、モノ/ジC1〜6アルキルカルバモイル基、モノ/ジハロゲン化C1〜6アルキルカルバモイル基、モノ/ジC3〜8シクロアルキルカルバモイル基、モノ/ジC6〜14アリールカルバモイル基、モノ/ジC7〜20アラルキルカルバモイル基、モノ/ジ複素環カルバモイル基、C1〜6アルキルスルホニル基、ハロゲン化C1〜6アルキルスルホニル基、C3〜8シクロアルキルスルホニル基、C6〜14アリールスルホニル基、C7〜20アラルキルスルホニル基、複素環スルホニル基、モノ/ジC1〜6アルキルスルファモイル基、モノ/ジハロゲン化C1〜6アルキルスルファモイル基、モノ/ジC3〜8シクロアルキルスルファモイル基、モノ/ジC6〜14アリールスルファモイル基、モノ/ジC7〜20アラルキルスルファモイル基、およびモノ/ジ複素環スルファモイル基から選ばれる置換基を表わす)を表し;R2はC1〜6アルキル基を表し; 下記部分構造式(II): で表わされる環Aは以下からなるヘテロアリール群: より選択され(但し、環Aが式(II-31)の場合、pは1〜3の整数を表わす);R6は、水素原子、C1〜6アルキル基、ハロゲン化C1〜6アルキル基、またはヒドロキシC1〜6アルキル基を表わす)で表される中間体化合物、または製薬学的に許容されるその塩またはそれらの溶媒和物である。

IPC (3)：

C07D 401/04 ( 200 6.01) , C07D 417/04 ( 200 6.01) , C07D 403/04 ( 200 6.01)

FI (3)：

C07D 401/04 CSP , C07D 417/04 , C07D 403/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

医薬化合物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2007-551743 Applicant：アステックス・セラピューティクス・リミテッド
特許第5642323号
トリアゾロピリジン化合物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2013-542480 Applicant：エフ.ホフマン-ラロシュアーゲー

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

REGISTRY[STN online], 20120824
REGISTRY[STN online], 20120415
REGISTRY[STN online], 20110321

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