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J-GLOBAL ID:201503017042203126
耐熱性高分子電解質膜及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (3):
津国 肇
, 小澤 圭子
, 三宅 俊男
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011245110
Publication number (International publication number):2013101841
Patent number:5757001
Application date: Nov. 09, 2011
Publication date: May. 23, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】下記式(I):
[式中、Rは、C3〜20シクロアルキレン又はC7〜14スピロアルキレンであり、nは、20〜1000の整数である]で示される脂環式ポリベンズイミダゾールを含む主鎖と、前記主鎖に室温〜150°Cの温度条件下で、5〜1000kGyのγ線を照射して放射線グラフト重合により付加されたグラフト鎖と、を含む耐熱性高分子電解質膜であって、前記グラフト鎖は脂環式ポリベンズイミダゾール主鎖に対し30〜120重量%のグラフト率で付加され、少なくとも前記グラフト鎖の一部がスルホン酸基を有することを特徴とする、耐熱性高分子電解質膜。
IPC (5):
H01M 8/02 ( 200 6.01)
, H01M 8/10 ( 200 6.01)
, H01B 1/06 ( 200 6.01)
, H01B 13/00 ( 200 6.01)
, C08J 5/22 ( 200 6.01)
FI (6):
H01M 8/02 P
, H01M 8/10
, H01B 1/06 A
, H01B 13/00 Z
, C08J 5/22 101
, C08J 5/22 CEZ
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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