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J-GLOBAL ID：201503018063415189

プラグフロー形成方法、及び、これを利用する細胞培養装置

Inventor：
石井 浩介

About 石井 浩介


Applicant, Patent owner：
株式会社IHI

About 株式会社IHI


Agent (2)： 大賀 眞司 ,  百本 宏之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014160879
Publication number (International publication number)：2015142550
Application date： Aug. 06, 2014
Publication date： Aug. 06, 2015
Summary：
【課題】水平面内に於ける一定流速の流れを形成可能な細胞培養装置を提供する。【解決手段】水平断面積が上方に向って漸次増大する培養槽3と、その下端部に設けられた球体16と、前記下端部から培地2を供給する液体供給装置とを有し、培養槽の壁面に沿って上昇する培地の流れを形成するとともに、培養槽の中心部を上昇する培地の流れを抑制し、培養槽内にプラグフローを形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水平断面積が上方に向って増加する形状の槽に供給される液体に周回上昇流を形成させることによって、当該槽内で前記液体のプラグフローを形成するプラグフロー形成方法。
IPC (2)：
C12M 1/00 ,  C12M 1/02
FI (2)：
C12M1/00 A ,  C12M1/02
F-Term (7)：
4B029AA02 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4B029DB17 ,  4B029DF08 ,  4B029DF09 ,  4B029DG06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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