窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：江藤聡明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2014560475
Publication number (International publication number)：2015526364
Application date： Feb. 26, 2013
Publication date： Sep. 10, 2015
Summary：

本発明は、ドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル、前記エアロゲルの製造方法及び、例えば、電極又は触媒としての、前記エアロゲルの使用方法に関する。さらに、本発明は電極、全固体スーパーキャパシタ(ASSS)又は前記エアロゲルを原料とする触媒に関する。本発明はまた、出発物質としてグラフェンオキシドを使用するドープされたグラフェンを原料とするエアロゲルの製造における中間体として得ることのできるドープされたグラフェンに関する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

窒素及びホウ素でドープされたグラフェンを原料とするエアロゲル。

IPC (3)：

C01B 31/02 , H01M 4/90 , H01G 11/32

FI (3)：

C01B31/02 101Z , H01M4/90 X , H01G11/32

F-Term (26)：

4G146AA01 , 4G146AA17 , 4G146AB10 , 4G146AC19B , 4G146AC27A , 4G146AD23 , 4G146AD35 , 4G146BA02 , 4G146BB03 , 4G146BB07 , 4G146CB10 , 4G146CB12 , 4G146CB13 , 4G146CB20 , 4G146CB32 , 5E078AB02 , 5E078AB03 , 5E078AB06 , 5E078BA18 , 5E078BA27 , 5E078BA30 , 5E078BA71 , 5H018AA10 , 5H018EE06 , 5H018HH03 , 5H018HH05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

グラフェン・エアロゲルおよびグラフェン酸化物エアロゲル
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2011-539507 Applicant：タイコ・エレクトロニクス・コーポレイション
ホウ素及び窒素で置換されたグラフェン及びその製造方法、並びにそれを具備したトランジスタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-133050 Applicant：三星電子株式会社
炭素触媒及びこの炭素触媒を含むスラリー、炭素触媒の製造方法、ならびに、炭素触媒を用いた燃料電池、蓄電装置及び環境触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-136828 Applicant：国立大学法人群馬大学, 日清紡ホールディングス株式会社

Cited by examiner (3)

グラフェン・エアロゲルおよびグラフェン酸化物エアロゲル
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2011-539507 Applicant：タイコ・エレクトロニクス・コーポレイション
ホウ素及び窒素で置換されたグラフェン及びその製造方法、並びにそれを具備したトランジスタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-133050 Applicant：三星電子株式会社
炭素触媒及びこの炭素触媒を含むスラリー、炭素触媒の製造方法、ならびに、炭素触媒を用いた燃料電池、蓄電装置及び環境触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-136828 Applicant：国立大学法人群馬大学, 日清紡ホールディングス株式会社

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