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J-GLOBAL ID:201503033831318048

薄膜形成装置およびこの薄膜形成装置を用いたアパタイト薄膜形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡 健司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013195449
Publication number (International publication number):2015059261
Application date: Sep. 20, 2013
Publication date: Mar. 30, 2015
Summary:
【課題】骨や歯などの硬組織に薄膜(特にアパタイト薄膜)を形成するための薄膜形成装置を提供する。【解決手段】薄膜形成装置は、ErーYAGレーザー、ErーCrーYSGGレーザー、Nd-YAGレーザー、半導体レーザーから選択されるいずれか1つからなるレーザーを照射ノズル5から照射するレーザー照射手段2と、レーザー照射手段2からのレーザーの照射を受けるターゲット部材3と、ターゲット部材3を保持するターゲット保持手段4を備え、ターゲット保持手段4は、照射ノズル5の先端縁7の一部または全部とターゲット部材3との間隔を0.2〜20mm離間させ、かつ照射ノズル5から照射されるレーザーがターゲット部材3に衝突することによってターゲット部材3から飛散する物質が対象物に堆積される角度となるように、ターゲット部材3を保持する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ErーYAGレーザー、ErーCrーYSGGレーザー、Nd-YAGレーザー、半導体レーザーから選択されるいずれか1つからなるレーザーを照射ノズルから照射する照射手段と、 前記レーザー照射手段からのレーザーの照射を受けるターゲット部材と、 前記ターゲット部材を保持するターゲット保持手段を備え、 前記ターゲット保持手段は、 前記照射ノズルの先端縁の一部または全部と前記ターゲット部材との間隔を0.2〜20mm離間させ、かつ前記照射ノズルから照射されるレーザーが前記ターゲット部材に衝突することによって前記ターゲット部材から飛散する物質が対象物に堆積される角度となるように、前記ターゲット部材を保持するものであることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3):
C23C 14/28 ,  A61C 19/06 ,  A61B 17/56
FI (3):
C23C14/28 ,  A61C19/06 A ,  A61B17/56
F-Term (11):
4C052LL04 ,  4C052MM05 ,  4C052MM10 ,  4C160LL21 ,  4C160LL70 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029BA41 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 薄膜形成装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2011-271018   Applicant:学校法人近畿大学, 学校法人大阪歯科大学
  • 単結晶性薄膜の製造方法および成膜装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-202507   Applicant:住友電気工業株式会社, 東京電力株式会社

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