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J-GLOBAL ID：201503058695276509
メタマテリアルの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
,
Agent (2)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013176030
Publication number (International publication number)：2015045708
Application date： Aug. 27, 2013
Publication date： Mar. 12, 2015
Summary：
【課題】効率的にメタマテリアルを製造する。【解決手段】 電磁波に対して共振する電磁波共振体を備えるメタマテリアルの製造方法であって、電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、を含み、前記支持体を形成するステップは、基板上に、厚さ方向に貫通した親水性液相領域を有する親水性・疎水性分相膜のカラム構造を形成するステップと、前記厚さ方向に貫通した親水性液相領域を有する親水性・疎水性分相膜のカラム構造内に、充填物を充填するステップであって、前記充填物を、前記カラム構造の高さと同じ高さで形成するステップと、前記充填物を有する前記親水性・疎水性分相膜から、該親水性・疎水性分相膜の少なくとも一部を選択的に除去し、前記充填物を含む支持体を得るステップと、を有するメタマテリアルの製造方法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
電磁波に対して共振する電磁波共振体を備えるメタマテリアルの製造方法であって、
(a)電磁波共振体が形成される部分を有する支持体を形成するステップと、
(b)前記支持体の前記部分に、電磁波共振体を形成する材料を蒸着し、前記支持体に前記電磁波共振体を配置するステップと、
を含み、
前記支持体を形成するステップは、
(c)基板上に、厚さ方向に貫通した親水性液相領域を有する親水性・疎水性分相膜のカラム構造を形成するステップと、
(d)前記厚さ方向に貫通した親水性液相領域を有する親水性・疎水性分相膜のカラム構造内に、充填物を充填するステップであって、前記充填物を、前記カラム構造の高さと同じ高さで形成するステップと、
(e)前記充填物を有する前記親水性・疎水性分相膜から、該親水性・疎水性分相膜の少なくとも一部を選択的に除去し、前記充填物を含む支持体を得るステップと、
を有するメタマテリアルの製造方法。
IPC (3)：
G02B 5/30
, B82Y 25/00
, B82Y 40/00
G02B5/30
, B82Y25/00
, B82Y40/00
2H149BA01
, 2H149BA24
, 2H149BB26
, 2H149FA01W
, 2H149FA43W
Cited by examiner (6)
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メタマテリアルの製造方法およびメタマテリアル
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2011-284087
Applicant：旭硝子株式会社
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微細構造体の製造方法、複合体
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2010-139470
Applicant：凸版印刷株式会社, 国立大学法人東京工業大学
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微細構造体の製造方法、複合体
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2011-166938
Applicant：凸版印刷株式会社, 国立大学法人東京工業大学
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