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J-GLOBAL ID：201503059843790396

シリコン微細粒子の形成方法及びそれを用いた発光体並びにその製造方法

Inventor： 小林 光 ,  前田 譲章
Applicant, Patent owner： 小林 光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013188227
Publication number (International publication number)：2015054793
Application date： Sep. 11, 2013
Publication date： Mar. 23, 2015
Summary：

【課題】 酸エッチング工程では、Si表面を溶解してポーラスシリコンを得るのであり、この場合、粒径が数百ナノメートル(nm)以下のSi極微細粒子を安定的に得ることは極めて難しかった。シリコン基材の切粉から、表面安定性の高いSi微細粒子を創製する。【解決手段】 シリコン基材のインゴットから固定砥粒切断法で切出されたSiの切粉を、ビーズミル法で粉砕し、さらに有機溶媒中で分散し、分離、選別処理することで、粒径が0.5〜2nm、あるいは0.8〜5nmのSiの微細結晶粒子を創製し、それを用いて青色あるいは緑色の発光体を形成することができた。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

Siの微細粒子を、物理的粉砕法でさらに粉砕し、表面処理後、有機溶媒中で分散、分離処理する工程をそなえたSi極微細粒子の形成方法。

IPC (3)：

C01B 33/02 ,  C09K 11/59 ,  C09K 11/08

FI (3)：

C01B33/02 Z ,  C09K11/59 ,  C09K11/08 A

F-Term (17)：

4G072AA01 ,  4G072BB05 ,  4G072DD07 ,  4G072DD08 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH40 ,  4G072LL15 ,  4G072MM03 ,  4G072MM26 ,  4G072MM28 ,  4G072QQ06 ,  4G072TT01 ,  4G072UU30 ,  4H001CA02 ,  4H001CF01 ,  4H001XA14